微波去胶机-光刻胶去胶液-等离子刻蚀ICP-韦氏纳米系统（深圳）有限公司

News / articles

新闻 / 文章

P-7探针式轮廓仪在众多行业中发挥着重要作用

P-7探针式轮廓仪凭借其高精度、宽测量范围、丰富扩展性等优点，在众多行业中发挥着...

2025-12-16

P-7探针式轮廓仪的工作原理可以概括为以下几点

P-7探针式轮廓仪是一种高精度的表面形貌测量设备，广泛应用于半导体、数据存储、MEMS、太阳能、光电子等领域。其基本工作原理可以概括为以下几点：1.接触式测量：采用物理探针接触样品表面的方式进行测量。探针通常为金刚石材质，曲率半径在50nm...

2025-12-26

Product / display

产品中心

产品中心

product center

友情链接：

等离子刻蚀机 / 数控机床维修 / whatman无机膜 /

韦氏纳米系统（深圳）有限公司

地址：深圳市宝安区胤璇中心大厦T4栋2802室

邮箱：support@firstnanosystem.com

传真：400-9999-185

快速链接

关注我们

欢迎您关注我们的微信公众号了解更多信息：

欢迎您关注我们的微信
了解更多信息

版权所有 © 2026 韦氏纳米系统（深圳）有限公司 All Rights Reserved 备案号：粤ICP备2025383420号总访问量：206349 管理登陆技术支持：化工仪器网 Sitemap.xml

18721247059

联系我们

contact us

咨询电话

400-9999-18518721247059

扫一扫，关注我们

联
系
我
们